14号，情人节。

介于昨天晚上曲某人与佐佐木元聊的非常投机，还达成了许多默契。原本参观NEC丸之内总部大楼的计划，变成了参观NEC中央研究所。

从名字就能看出来，“中央研究所”是NEC旗下一系列研究机构中规模最大的，也是成立最早的。

49年创立，从最初的材料、器件，逐渐拓展到计算机系统和软件。

75年从东京迁至神奈川县川崎市，又成立了“未来技术研究室”，专注于十到三十年后的颠覆性技术。

（小日子的“县”相当于咱们的省，“市”相当于地级市或县级市。从面积上看，“县”相当于市，“市”相当于县）

76年开发出小日子首款量产的商用采用 7.5 微米工艺，集成 2500 个晶体管的4 位微处理器μCOM-4。

77年开发出“沟槽电容器” 结构，使存储密度提升4倍，成功研制64K DRAM。

78年开发电子束光刻技术，将集成电路线宽从 5 微米缩减至 1 微米，突破了当时的技术极限。

曲卓这次参观的重点，就是电子束光刻技术。

不但“摸”到了NEC自己的独立项目，还“摸”到了尼康和IBM通过专利共享，合作开发的NCR-EB1A原型机?。

图片上是IBM和尼康合作，在1980年推出的 EL-3 电子束光刻

（NCR-EB1A的图片没找着，应该跟同源同代的EL-3差不太多）

这玩意支持?1000万像素并行投射，将线宽推进到了0.1-0.5微米（100-500纳米）。?

而时下老美 GCA 最先进的DSW4800步进式光刻机，最小线宽是0.5到1微米。

当然了，电子束光刻机虽然精度更高，但和光学光刻机是没法比的。