一颗的芯片诞生，软件需要EDA的支持，硬件核心则是光刻机。

先说EDA。

彭万华记得他那好友曾经提到过。

历史上，1986年，EDA国产化项目正式启动，单位包含十所高校、四所研究所、两家产业研究所，甚至电子工业部都拉进来，多达17家单位，数百名高级学者和技术人员。

历经四年才最终研制出熊猫系统，并通过验收推向了EDA市场。

即便如此，这个系统也是仅仅实现部分集成电路开发能力，还没有实现开发全流程的覆盖。

凭老徐课题组这两三只小猫就想解决EDA国产化的问题，那根本不可能，也揽不了这个活。

EDA的国产化之路可以说是任重而道远。

他随即又想起了光刻机。

我国光刻机的历史，可以追溯到1966年。

那年，109厂和沪市光学仪器厂合作，研制成功我国第一台65型接触式光刻机。到了1977年，中科院半导体所开始研制JK-1型接近式光刻机，并在前年完成第二阶段工艺试验。

去年，109厂，哈市量刃具厂、阿城继电器厂共同研制了KHA75-1型半自动接近接触式光刻机，并获得了第一机械工业部科技工作一等奖。

该型号具有适应性强、功能齐全、性能良好特点，在某些指标已达到CanonPLA500-F型水平。

按照历史进展，两年后的1985年机电部45所将成功研制BG-101分步光刻机，主要性能指标接近甚至达到米国GCA公司的4800DSW系统水平。

同样在该年，中科院沪市光学精密机械研究所研制出扫描式投影光刻机。

总体来看，我国八十年代中期的光刻机水平即便和顶尖水平差一两代，但差距不算太大，可以存在赶追的可能性。

但在八十年代中后期，造不如买，买不如租的思想开始盛行，贸工技妖风四起。

许多国企纷纷转型转产，大项目纷纷落马，没有了支持，项目全部停滞，包括大飞机运十同样如此。

导致我国自研的EDA和光刻机技术被弃之一旁，集成电路产业渐渐与国外脱节，芯片成为卡脖子技术。

到后来ASML已经开始生产3纳米光刻机，我国才刚刚突破28纳米工艺，技术水平差了将近六、七代。

后来国家发现技术是买不来、要不来、讨不来的，才开始花大力气奋起直追。

中间甚至出现几十亿汉芯诈骗、上千亿投资的宏芯烂尾等等令人啼笑皆非的事。

可以说都是在为当初的错误决定买单。